Компания Canon демонстрирует первые чипы, изготовленные при помощи 11-нм технологии нанопечати - «Наука и технологии»

На выставке Canon Expo 2015 Tokyo, которая проходила в рамках форума Tokyo International Forum с 4 по 6 ноября 2015 года, представители компании Canon Inc продемонстрировали первые полупроводниковые чипы, изготовленные при помощи 11-нанометровой промышленной технологии нанопечатной литографии (nanoimprint). И, согласно имеющейся информации, данная технология уже почти находится на стадии готовности к ее использованию в изготовлении полупроводниковых устройств и приборов следующих поколений.

Нанопечатная литография - это технология, позволяющая сформировать элементы схем и электронных приборов на кремниевом или другом основании при помощи специального штампа. Существующие технологии, основанные на обычной литографии, сталкиваются с ограничением минимальных размеров элементов и компонентов, которые накладываются длиной волны используемого света, и в данное время они уже почти вплотную приблизились к пороговому значению своей разрешающей способности. С другой стороны, у технологии нанопечати нет никаких явных ограничений, связанных с длинами волн света, что в теории может позволить при помощи таких технологий производить сколь угодно малые элементы.

Следует отметить, что специалисты компании Canon Inc продолжают разработку технологий нанопечати совместно со специалистами компании Toshiba Corp. Такое сотрудничество является успешным, о чем свидетельствуют первые пластины с 11-нм чипами, произведенные в Японии, а в ближайшем будущем обе компании сосредоточат свои усилия на коммерциализации разработанных ими технологий.